FeCrAl මිශ්ර ලෝහයලෝහමය පැණි වද උපස්ථර සඳහා තීරු / තීරු දඟර 0.05mm ඝණකම

ඉහළ ඇලුමිනියම් අන්තර්ගතය, ඉහළ ක්‍රෝමියම් අන්තර්ගතය සමඟ ඒකාබද්ධව පරිමාණ උෂ්ණත්වය 1425 C (2600F ) දක්වා වැඩි කිරීමට හේතු වේ; ශීර්ෂය යටතේ තාප ප්රතිරෝධය, මේවාFeCrAල් මිශ්ර ලෝහයs බහුලව භාවිතා වන Fe සහ Ni පදනම් මිශ්‍ර ලෝහ සමඟ සංසන්දනය කෙරේ. එම වගුවෙන් පෙනෙන පරිදි, දFeCrAල් මිශ්ර ලෝහයබොහෝ පරිසරවල අනෙකුත් මිශ්‍ර ලෝහවලට සාපේක්ෂව s හි උසස් ගුණාංග ඇත.

ප්‍රත්‍යාවර්ත උෂ්ණත්ව තත්ත්‍වයේදී, Fecralloys මිශ්‍ර ලෝහ ලෙසද හැඳින්වෙන AF මිශ්‍ර ලෝහයට ytrium එකතු කිරීම, AF මිශ්‍ර ලෝහයේ ඇති සංඝටකවල සේවා කාලය, AF මිශ්‍ර ලෝහයේ ඇති කොටස්වල සේවා කාලය දිගු කරයි. A-1 ශ්රේණිය.

Fe-Cr-Al මිශ්‍ර වයර් සෑදී ඇත්තේ යකඩ ක්‍රෝමියම් ඇලුමිනියම් පාදක මිශ්‍ර ලෝහ වලින් වන අතර යිට්‍රියම් සහ සර්කෝනියම් වැනි ප්‍රතික්‍රියාශීලී මූලද්‍රව්‍ය කුඩා ප්‍රමාණයක් අඩංගු වන අතර උණු කිරීම, වානේ පෙරළීම, ව්‍යාජ ලෙස සකස් කිරීම, ඇනීල් කිරීම, ඇඳීම, මතුපිට පිරියම් කිරීම, ප්‍රතිරෝධක පාලන පරීක්ෂණය ආදිය මගින් නිෂ්පාදනය කෙරේ.
Fe-Cr-Al වයර් හැඩගස්වා ඇත්තේ අධිවේගී ස්වයංක්‍රීය සිසිලන යන්ත්‍රයකින් වන අතර එහි බල ධාරිතාව පරිගණකය මගින් පාලනය වේ, ඒවා වයර් සහ රිබන් (තීරුව) ලෙස ලබා ගත හැකිය.

විශේෂාංග සහ වාසි
1. ඉහළ භාවිත උෂ්ණත්වය, උපරිම භාවිත උෂ්ණත්වය 1400C (0Cr21A16Nb, 0Cr27A17Mo2, ආදිය) දක්වා ළඟා විය හැක.
2. ප්රතිරෝධයේ අඩු උෂ්ණත්ව සංගුණකය
3. Ni-base super-miloys වලට වඩා අඩු තාප ප්රසාරණ සංගුණකය.
4. ඉහළ විද්යුත් ප්රතිරෝධය
5. ඉහළ උෂ්ණත්වය යටතේ, විශේෂයෙන් සල්ෆයිඩ් අඩංගු වායුගෝලය යටතේ හොඳ විඛාදන ප්රතිරෝධය
6. ඉහළ මතුපිට පැටවීම
7. ක්රේප්-ප්රතිරෝධී
8. Nichrome වයර් හා සසඳන විට අඩු අමුද්‍රව්‍ය පිරිවැය, අඩු ඝනත්වය සහ ලාභදායී මිල.
9. 800-1300ºC හි සුපිරි ඔක්සිකරණ ප්රතිරෝධය
10. දිගු සේවා කාලය

වානිජමය ඔක්සිකරණය හේතුවෙන් මෙටාස්ටේබල් ඇලුමිනා අදියර සෑදීමFeCrAල් මිශ්ර ලෝහයවිවිධ උෂ්ණත්ව හා කාල පරිච්ඡේදවල වයර් (0.5 mm ඝනකම) පරීක්ෂා කර ඇත. තාපගතිමිතික විශ්ලේෂකය (TGA) භාවිතයෙන් සාම්පල වාතයේ සමෝෂ්ණ ඔක්සිකරණය කරන ලදී. ඔක්සිකරණය වූ සාම්පලවල රූප විද්‍යාව ඉලෙක්ට්‍රොනික පරිලෝකන ඉලෙක්ට්‍රෝන අන්වීක්ෂයක් (ESEM) භාවිතයෙන් විශ්ලේෂණය කරන ලද අතර පෘෂ්ඨීය විශ්ලේෂණය පිළිබඳ X-ray බලශක්ති විසරණ X-Ray (EDX) විශ්ලේෂකය භාවිතයෙන් සිදු කරන ලදී. එක්ස් කිරණ විවර්තනය (XRD) තාක්ෂණය ඔක්සයිඩ් වර්ධනයේ අදියර සංලක්ෂිත කිරීමට භාවිතා කරන ලදී. සමස්ත අධ්‍යයනයෙන් පෙන්නුම් කළේ ඉහළ මතුපිට ප්‍රදේශයක ගැමා ඇලුමිනා වගා කළ හැකි බවයිFeCrAල් මිශ්ර ලෝහයපැය කිහිපයක් පුරා 800°C ට වඩා සමෝෂ්ණ ඔක්සිකරණය වූ විට වයර් මතුපිට.